Como una invitación a reflexionar sobre la convergencia y divergencia entre el arte y la moda, describe Alexis Carreño, PhD en Historia del Arte de la State University of New York, el próximo seminario “Arte/Moda: Intersecciones”, encuentro multidisciplinario auspiciado por el Consejo de la Cultura, que entre el 25 y 27 de mayo reunirá a destacados artistas en el MAC del Parque Forestal.

Durante tres jornadas, importantes referentes de la escena nacional en ámbitos como historia, artes visuales, diseño, joyería, moda, fotografía, entre otros, presentarán sus ponencias sobre la utilización de la indumentaria como tema central y soporte para su obra, además de cómo la historia del arte y la colaboración con artistas visuales han inspirado grandes colecciones.

La clase magistral inaugural estará a cargo de Pía Montalva, catalogada como la única historiadora de la moda chilena en el país, quien ha dedicado parte de su carrera al estudio de los cambios que experimenta la sociedad a través de la vestimenta.

La actividad además contará con un workshop para estudiantes del Departamento de Arte de la Universidad de Chile, a cargo de Jorge Castañón, y la presentación de “Fashion Films”, una exposición que mezcla moda, cine y publicidad en la Sala Juan Egenau del Departamento de Artes Visuales del plantel.

El seminario “Arte/Moda: Intersecciones” se desarrollará los días 25, 26 y 27 de mayo, desde las 17 horas en la Sala de Conferencias del Museo de Arte Contemporáneo Parque Forestal. La entrada es liberada, sin inscripción y por orden de llegada.

 Expositores:

AdeAntonio – Rodrigo Bruna – Jorge Castañón – Juana Díaz – Ropa Doceñada – Manuel Figueroa – Nury González – Maite Lobos – Loreto Monsalve – Pía Montalva – Pablo Núñez – Cristóbal Portaluppi – Alejandra Prieto – Noli Provoste – SISA – Rocío Troc – Constanza Urrutia – Francisca Román – Walka – Ximena Zomosa

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